उच्च शुद्धता जिंक सल्फाइड (ZnS) इन्फ्रारेड ट्रांसमिशन के लिए अनुकूलन योग्य कण आकार के साथ

जिंक सल्फाइड (ZnS, CAS 1314-98-3) एक अकार्बनिक यौगिक है जिसका उपयोग व्यापक रूप से अपने अद्वितीय ऑप्टिकल, रासायनिक और भौतिक गुणों के लिए किया जाता है।यह खनिज स्फलेराइट के रूप में स्वाभाविक रूप से होता है लेकिन आमतौर पर औद्योगिक अनुप्रयोगों के लिए सिंथेटिक रूप से उत्पादित किया जाता हैजस्ता सल्फाइड अपने उच्च अपवर्तन सूचकांक, उत्कृष्ट अवरक्त संचरण और फॉस्फोरेसेंट विशेषताओं के लिए मूल्यवान है। यह पाउडर, क्रिस्टल और कोटिंग सहित विभिन्न रूपों में उपलब्ध है,इसे विभिन्न उच्च तकनीक और विनिर्माण क्षेत्रों के लिए उपयुक्त बनाना.

• ऑप्टिकल ट्रांसमिशन:अवरक्त (IR) स्पेक्ट्रम में उत्कृष्ट संचरण, लेंस, खिड़कियों और ऑप्टिकल कोटिंग के लिए आदर्श।
• प्रकाशमानता:विद्युत प्रकाशक डिस्प्ले, एलईडी और अंधेरे में चमकने वाली सामग्री में एक फॉस्फर के रूप में कार्य करता है।
• रंगद्रव्यइसकी उच्च अस्पष्टता और स्थिरता के कारण प्लास्टिक, सिरेमिक और पेंट में सफेद वर्णक के रूप में उपयोग किया जाता है।
• उत्प्रेरक:हाइड्रोकार्बन प्रसंस्करण सहित कुछ रासायनिक प्रतिक्रियाओं में उत्प्रेरक के रूप में कार्य करता है।
• अर्धचालक गुण:फोटोवोल्टिक उपकरणों, सेंसर और पतली फिल्म इलेक्ट्रॉनिक्स में लागू किया जाता है।
• यूवी अवशोषण:कोटिंग और कम्पोजिट में यूवी-ब्लॉकिंग क्षमता प्रदान करता है।

• ऑप्टिक्स और इन्फ्रारेड सिस्टम:थर्मल इमेजिंग, मिसाइल मार्गदर्शन और नाइट विजन उपकरण के लिए खिड़कियां, लेंस और गुंबद।
• इलेक्ट्रॉनिक्स:कैथोड रे ट्यूब (सीआरटी), एक्स-रे स्क्रीन और इलेक्ट्रोलुमिनेसेंट पैनल में फॉस्फोरस।
• पेंट्स और कोटिंग्स:ऑटोमोबाइल, एयरोस्पेस और समुद्री उद्योगों के लिए विरोधी संक्षारक और यूवी प्रतिरोधी कोटिंग्स।
• प्लास्टिक और सिरेमिकःसफेदपन, शक्ति और थर्मल स्थिरता में सुधार के लिए योजक।
• सुरक्षा एवं मुद्रण:सुरक्षा स्याही, फ्लोरोसेंट मार्कर और नकली प्रौद्योगिकी में इस्तेमाल किया जाता है।
• फोटोवोल्टिकपतली फिल्म सौर कोशिकाओं में बफर परत (जैसे, सीआईजीएस सौर कोशिकाएं) ।
• अनुसंधान एवं विकास:प्रयोगात्मक भौतिकी, नैनो प्रौद्योगिकी और अर्धचालक अध्ययन के लिए सामग्री।

हमारे जिंक सल्फाइड का उत्पादन नियंत्रित सिंथेटिक विधियों के माध्यम से उच्च शुद्धता वाले कच्चे माल का उपयोग करके किया जाता है, जिनमें शामिल हैंः

1. वर्षा पद्धति:जलीय घोल में हाइड्रोजन सल्फाइड या सोडियम सल्फाइड के साथ जस्ता के नमक की प्रतिक्रिया, इसके बाद फ़िल्टरेशन, धोने और जलसेक।
2. वाष्प-चरण अवशेषःऑप्टिक्स में प्रयुक्त उच्च शुद्धता वाले क्रिस्टलीय रूपों के लिए रासायनिक वाष्प जमाव (सीवीडी)
3. शुद्धिकरण:ऑप्टिकल और इलेक्ट्रॉनिक ग्रेड के लिए अशुद्धियों (जैसे, लोहा, सीसा) को हटाने के लिए शोधन के कई चरण।
4. कण आकार नियंत्रण:विशिष्ट कण आकार वितरण को पूरा करने के लिए मिलिंग, वर्गीकरण और सतह उपचार।
5. गुणवत्ता आश्वासन:उद्योग मानकों के अनुपालन को सुनिश्चित करने के लिए एक्सआरडी, एसईएम, आईसीपी-ओईएस और स्पेक्ट्रोफोटोमेट्री के माध्यम से कठोर परीक्षण।

• उच्च शुद्धता और स्थिरता:हम विश्वसनीय प्रदर्शन के लिए बैच-टू-बैच स्थिरता के साथ ≥99.9% शुद्धता की गारंटी देते हैं।
• अनुकूलन:आपकी विशिष्ट आवश्यकताओं को पूरा करने के लिए अनुकूलित कण आकार, सतह उपचार और सूत्र।
• तकनीकी विशेषज्ञता:अकार्बनिक रासायनिक विनिर्माण में दशकों का अनुभव तथा समर्पित अनुसंधान एवं विकास सहायता।
• वैश्विक अनुपालनःउत्पाद REACH, RoHS और अन्य अंतरराष्ट्रीय नियामक मानकों को पूरा करते हैं।
• प्रतिस्पर्धी मूल्य निर्धारण:गुणवत्ता पर समझौता किए बिना लागत प्रभावी समाधान।
• तेजी से वितरण:विश्व भर में समय पर शिपमेंट सुनिश्चित करने वाला कुशल रसद नेटवर्क।
• पर्यावरण के अनुकूल प्रक्रियाएं:सतत उत्पादन और न्यूनतम पर्यावरणीय प्रभाव के प्रति प्रतिबद्धता।